| 发明名称 |
POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITIONS |
| 摘要 |
The invention provides a positive working photosensitive composition which comprises at least one novolak resin, at least one o-quinone diazide and a propylene glycol alkyl ether acetate. |
| 申请公布号 |
ZA8504290(B) |
申请公布日期 |
1986.04.30 |
| 申请号 |
ZA19850004290 |
申请日期 |
1985.06.06 |
| 申请人 |
AMERICAN HOECHST CORPORATION |
发明人 |
THOMAS R. PAMPALONE |
| 分类号 |
G03C1/72;G03F7/022;H01L21/027 |
主分类号 |
G03C1/72 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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