| 发明名称 |
PROCEDIMENTO PER LA DEPOSIZIONE DI SILICIO IN FORMA MICROCRISTALLINA |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
IT1122593(B) |
申请公布日期 |
1986.04.23 |
| 申请号 |
IT19790024409 |
申请日期 |
1979.07.17 |
| 申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
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| 分类号 |
C01B33/02;C01B33/035;C23C16/24;(IPC1-7):C01B/ |
主分类号 |
C01B33/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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