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<P>LE PROCEDE APPARTIENT A LA CATEGORIE DES DEPOTS PAR EVAPORATION DE METAL EN ATMOSPHERE REACTIVE DANS L'ENCEINTE D'UN EVAPORATEUR SOUS VIDE. IL CONSISTE A DISPOSER DANS L'ENCEINTE LES SUBSTRATS PREALABLEMENT NETTOYES, A EVACUER L'ENCEINTE PAR UN PROCESSUS CLASSIQUE JUSQU'A OBTENIR UNE PRESSION D'AU PLUS 1,5MPA (10TORR), A INJECTER DE L'OXYGENE PUR A UN DEBIT REGLE EN SORTE QUE LA PRESSION SOIT COMPRISE ENTRE 2 ET 4MPA EN VISANT 3MPA (210TORR), A DEMASQUER UNE NACELLE CHAUFFEE DISPOSEE DANS L'ENCEINTE ET CONTENANT DU CHROME A UNE TEMPERATURE TELLE QU'UNE COUCHE D'OXYDE DE CHROME CROISSE EN EPAISSEUR SUR LES SUBSTRATS DE 0,1 A 0,5NM PAR SECONDE, EN VISANT 0,2NM PAR SECONDE, ET A MASQUER LA NACELLE LORSQUE LA COUCHE D'OXYDE DE CHROME A ATTEINT UNE EPAISSEUR CORRESPONDANT A LA PREMIERE EXTINCTION EN REFLEXION SPECULAIRE SOUS INCIDENCE SENSIBLEMENT NORMALE. LA VITESSE DE CROISSANCE EST CONTROLEE PAR LA DERIVE DE RESONANCE D'UN QUARTZ QUI EST SOUMIS AU DEPOT. L'EXTINCTION EST CONTROLEE EN LUMIERE BLANCHE A 3400K SUR UN SUBSTRAT TEMOIN PREALABLEMENT METALLISE.</P>
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