Thermostable polymer system, cross-linkable by irradiation, for microelectronic use.

摘要

Zur Erzielung einer niedrigen Dielektrizitätskonstanten und zur Verbesserung der Dauertemperaturbestandigkeit von strahlungsempfindlichen Kunstharzlacken enthält das Polymersystem als Ausgangsstoffe für die Umsetzung lineare Fluorpolymere mit mindestens zwei reaktiven Endgruppen pro Polymermolekül. Bevorzugt werden perfluorierte Polyätherverbindungen und perfluorierte Alkane eingebaut. Das Produkt wird verwendet als Beschichtung (2, 13, 4) bei der Herstellung von gedruckten Mehrlagenverdrahtungen und erspart Durchbohrungen und zusätzliche Kupferzwischenschichten. Ein weiteres Anwendungsgebiet liegt im Bereich der integrierten Halbleiterschaltungen in VLSI-Technik bei der Erzeugung von Negativ-Fotoresists.