Process to repair transmission masks.

摘要

Das Verfahren gemäß der Erfindung betrifft das Reparieren von Transmissionsmasken für die Röntgenstrahl-, Elektronenstrahl- bzw. Ionenstrahllithographie. Hierzu wird in einem Vakuumsystem ein fein fokussierter Elektronenstrahl zeilenweise über eine unerwünschte Maskenöffnung oder am Rand der Maskenöffnung entlang geführt, um die Öffnung durch die dem Strahl folgenden Kontaminationsstreifen vollständig zu verschließen oder um die Form der Maskenöffnung zu korrigieren. Unter Einwirkung des Elektronenstrahls erfolgt eine Polymerisation von Monomermolekülen, die aus dem Diffusionspumpenöl stammen oder im Bereich der Maske zudosiert werden. Das Polymergerüst kann nach dem Auffüllen der unerwünschten Maskenöffnung mit einem leitenden Material von der Rückseite der Maske her wieder entfernt werden. Anschließend wird eine Goldschicht auf die Vorder- und Rückseite der Maske aufgebracht.