发明名称 LIQ. MATERIAL GASIFYING METHOD AND FEEDER AND SEMICONDUCTOR PRODUCING APPARATUS CONSTITUTED, USING IT
摘要
申请公布号 JPH09181061(A) 申请公布日期 1997.07.11
申请号 JP19950336301 申请日期 1995.12.25
申请人 HITACHI LTD 发明人 NIINA TOMOJI;OTSUKA MASASHI
分类号 B05D3/00;C23C16/44;C23C16/448;C23C16/52;H01L21/205;H01L21/223;H01L21/285;H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/31 主分类号 B05D3/00
代理机构 代理人
主权项
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