首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Verfahren zur Herstellung mit hoher Strahlungsbeständigkeit
摘要
申请公布号 DE69030554(T2) 申请公布日期 1997.09.18
申请号 DE19906030554T 申请日期 1990.11.09
申请人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA, KAWASAKI, KANAGAWA, JP;TOSHIBA MICRO-ELECTRONICS CORP., KAWASAKI, JP 发明人 HAMA, KAORU, C/O INTELLECTUAL PROPERTY DIVISION, MINATO-KU, TOKYO 105, JP
分类号 H01L29/78;H01L21/28;H01L21/31;H01L21/3115;H01L21/336;H01L21/762;H01L29/51;(IPC1-7):H01L21/311;H01L21/76 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com