Device for purifying halogen containing off-gases.

摘要

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Reinigung halogenhaltiger Schadstoffe, insbesondere zur Reinigung von Abgasen aus Anlagen zum plasmachemischen Ätzen von Halbleitermaterialien für elektronische Bauelemente. Die Vorrichtung ist gekennzeichnet durch einen innerhalb einer im Abgasstrom zwischen einer Plasmaätzanlage und deren Vakuumsystem angeordneten Reaktionskammer vorgesehenen heizbaren Feststoffkörper, an dessen Wandung das Abgas zwangsweise vorbeigeführt wird, mit dieser reagiert und gereinigt die Reaktionskammer verläßt. Die Reaktionskammer ist zylinderförmig aufgebaut, weist eine Kühleinrichtung sowie Mittel zur Zuführung von Spül- und Reaktionsgas auf und ist über einen abnehmbaren Flanschdeckel servicefreundlich aufgebaut. Die Vorrichtung ist zur Reinigung chlorhaltiger Abgase einsetzbar, durch den Wechsel des Feststoffkörpers können fluorhaltige Abgase gereinigt werden.