发明名称 Integrated circuit of the complementary circuit technique.
摘要 Integrierte Schaltung in komplementärer Schaltungstechnik mit zwei Feldeffekttransistoren (T1, T2) unterschiedlicher Kanaltypen, von denen der eine (T2) in einem dotierten Halbleiterkörper (1) eines ersten Leitfähigkeitstyps und der andere (T1) in einer in diesen vorgesehenen Halbleiterzone (2) eines zweiten Leitfähigkeitstyps angeordnet ist. Angestrebt wird hierbei eine Sicherheit gegen thermische Überlastungen, die bei Überspannungen an dem einen Anschlussgebiet des in der Halbleiterzone befindlichen Feldeffekttransistors (T1) durch «latch-up»-Einflüsse auftreten können. Erreicht wird das durch die Anordnung eines Metallkontakts (12) auf der Oberfläche eines in den Halbleiterkörper (1) eingefügten entgegengesetzt zu diesem dotierten Halbleitergebiets (2'), der mit diesem eine Schottky-Diode (D) bildet und mit dem genannten Anschlussgebiet des in der Halbleiterzone (2) befindlichen Feldeffekttransistors (T1) verbunden ist, während das Halbleitergebiet (2') mit der Versorgungsspannung (VDD) beschaltet ist. Das Anwendungsgebiet umfasst CMOS-Schaltungen.
申请公布号 EP0166386(A2) 申请公布日期 1986.01.02
申请号 EP19850107660 申请日期 1985.06.21
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 PFLEIDERER, HANS-JOERG, DR. DIPL.-ING.;SCHUETZ, ALFRED, DR. DIPL.-ING.
分类号 H01L27/06;H01L21/285;H01L27/07;H01L27/08;H01L27/092;(IPC1-7):H01L27/06 主分类号 H01L27/06
代理机构 代理人
主权项
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