| 发明名称 | 保护膜用材料和具有用该材料形成的保护膜的磁头 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种保护膜，设置在磁头的滑动面上时，其热膨胀系数、硬度与磁头基板的热膨胀系数、硬度接近，而且是用防水性好、成膜速度快的材料制成。所述保护膜，至少其一部分中包括成分CaMgSi＃-[2]O＃-[6]区域。此区域的原子配置是Ca以八配位与０结合，Mg以六配位与０结合，Si以四配位与０结合。 | ||
| 申请公布号 | CN1065645C | 申请公布日期 | 2001.05.09 |
| 申请号 | CN95103271.2 | 申请日期 | 1995.02.28 |
| 申请人 | 株式会社日立制作所 | 发明人 | 田村太久夫;中野朝雄;末永和史;尾形洁;笹嶋崇三;熊坂登行 |
| 分类号 | G11B5/255;C01B33/24 | 主分类号 | G11B5/255 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 杨丽琴 |
| 主权项 | 1．一种用于磁头的保护膜的非晶质材料，其特征在于，至少其一部分中包括成分CaMgSi2O6的区域，上述区域的原子配置是Ca以八配位与O结合，Mg以六配位与氧结合，Si以四配位与O结合。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||