发明名称 含有光触媒性氧化物之组成物、制造薄膜之方法及薄膜与基材之复合体
摘要 一种含有具有光触媒能氧化物粒子、溶剂可溶性及非水解性锆化合物以及溶剂之组成物。理想的组成物中,其中具有光触媒能之氧化物系氧化钛,且该氧化物粒子之平均粒子径系在0.005~0.3μ m之范围,又锆化合物所使用量,系相对于具有光触媒能氧化物粒子100重量份、换算成ZrO2为3~200重量份。将上述组成物涂布于基材表面,经硬化处理过程而制得具有光触媒能薄膜与基材的复合体。
申请公布号 TW460322 申请公布日期 2001.10.21
申请号 TW087119897 申请日期 1998.12.01
申请人 昭和电工股份有限公司 发明人 大森将弘;中村英则;村濑典子;鱼谷信夫;大久保隆
分类号 B01J21/06;C09D1/00 主分类号 B01J21/06
代理机构 代理人 恽轶群 台北巿南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北巿南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种组成物,包含具有光触媒活性之氧化钛粒子 、溶剂可溶性及非水解性锆化合物,及一溶剂,其 中锆化合物量系在经换算为ZrO2,相对于100重量份 之具有光触媒活性的氧化钛粒子为3~200重量份的 范围内。2.如申请专利范围第1项之组成物,其中具 有光触媒活性之氧化钛粒子的平均粒径是在0.005~0 .3m之范围。3.如申请专利范围第1项或第2项之组 成物,其中之溶剂为至少一选自于由水及亲水性有 机溶剂组成之组群中的溶剂。4.一种制造薄膜之 方法,其特征在于:在基材之表面上涂覆如申请专 利范围第1至3项中任一项所述之组成物,并接着使 基材上所形成之薄膜固化。5.如申请专利范围第4 项之方法,其中经固化之薄膜的厚度范围为0.05m~ 2m。6.一种薄膜与基材之复合体,其系藉由下述 步骤制造:利用如申请专利范围第1至3项中任一项 所述之组成物涂覆基材以形成薄膜,并接着固化在 基材上所形成之薄膜,其中经固化之薄膜的厚度范 围为0.05m~2m之范围,且基材系选自于下述物质 所组成之组群:陶瓷、金属、玻璃、塑胶、纸、木 材、混凝土、电灯或照明器具。
地址 日本