| 主权项 |
1.一种用以氧化卤化及非卤化有机化合物并抑制 非卤化化合物因卤化挥发性有机化合物的氧化产 物而发生卤化作用的方法,其特征为该方法包含以 下的步骤: (a)提供包含卤化及非卤化有机化合物的气流;及 (b)将气流与有效催化量的组成物接触,组成物包含 位于高表面积氧化铝载体上的铂、钯、或其混合 物,其中氧化铝为硷土金属氧化物及稀土金属氧化 物所安定,并且实质上不含三氧化二铈。2.如申请 专利范围第1项之方法,其中,氧化铝为选自包含钡 、锶、镧、铌、及其混合物之金属的氧化物所安 定。3.如申请专利范围第2项之方法,其中,氧化铝 具有至少80平方米/克的表面积。4.如申请专利范 围第3项之方法,其中,氧化铝具有150至250平方米/克 的表面积。5.如申请专利范围第3项之方法,其中, 铂、钯、或其混合物构成1至20重量百分比的组成 物;氧化铝构成40至90重量百分比的组成物;且硷土 及稀土金属氧化物构成1至40重量百分比的组成物 。6.如申请专利范围第5项之方法,其中,铂、钯、 或其混合物构成2至10重量百分比的组成物;氧化铝 构成50至70重量百分比的组成物且硷土及稀土金属 氧化物构成5至30重量百分比的组成物。7.如申请 专利范围第6项之方法,其中,组成物包含62重量百 分比的Al2O3. 9.5重量百分比的Nd2O3.8.0重量百分比的La2O3.5.0重量 百分比的ZrO2.5.0重量百分比的SrO、4.5重量百分比 的BaO、及6.0重量百分比的钯。8.如申请专利范围 第6项之方法,其中,组成物包含61.4重量百分比的Al2 O3.9.5重量百分比的Nd2O3.8.0重量百分比的La2O3.5.0重 量百分比的ZrO2.5.0重量百分比的SrO、4.5重量百分 比的BaO、6.0重量百分比的钯、及0.6重量百分比的 铂。9.如申请专利范围第6项之方法,其中,组成物 包含59.0重量百分比的Al2O3.9.5重量百分比的Nd2O3.8.0 重量百分比的La2O3.5.0重量百分比的ZrO2.5.0重量百 分比的SrO、4.5重量百分比的BaO、及9.0重量百分比 的钯。10.一种用以氧化卤化及非卤化有机化合物 的方法,其特征为该方法包含以下的步骤: (a)提供包含卤化及非卤化有机化合物的气流;及 (b)将气流与有效催化量的组成物接触,组成物包含 浸渗至高表面积氧化铝中的铂、钯、或其混合物, 氧化铝已和本体氧化铈混合。11.如申请专利范围 第10项之方法,其中,氧化铝为稀土及硷土金属氧化 物所安定。12.如申请专利范围第11项之方法,其中, 稀土及硷土金属系选自包含钡、锶、镧、铌、及 其混合物。13.如申请专利范围第12项之方法,其中, 组成物包含60重量百分比的Al2O3.0.6重量百分比的 BaO、0.6重量百分比的La2O3.35.6重量百分比的本体CeO 2.及3.2重量百分比的钯。14.如申请专利范围第12项 之方法,其中,组成物包含82.4重量百分比的Al2O3.4.9 重量百分比的BaO、4.9重量百分比的本体Ce2O3.4.9重 量百分比的La2O3.及2.9重量百分比的钯。15.一种用 以氧化卤化及非卤化有机化合物并抑制非卤化化 合物因卤化有机化合物的氧化产物而发生卤化作 用的方法,其特征为该方法包含以下的步骤: (a)提供含有卤化及非卤化有机化合物的气流; (b)将气体与有效催化量的组成物接触并氧化,组成 物包含位于氧化铝、三氧化二铈、氧化钛、氧化 矽、氧化锰、氧化锆或者其混合物或复合物载体 上的铂、钯或其混合物;及 (c)将步骤(b)经氧化的气体进一步和有效催化量的 组成物接触,组成物包含位于高表面积氧化铝载体 上的铂、钯、或其混合物,其中氧化铝为硷土金属 氧化物及稀土金属氧化物所安定,并且实质上不含 三氧化二铈。16.如申请专利范围第15项之方法,其 中,步骤(b)的组成物包含浸渗至高表面积氧化铝中 的铂、钯、或其混合物,氧化铝已和本体氧化铈混 合。17.如申请专利范围第16项之方法,其中,氧化铝 含有低于1%以质量计的硷土及稀土金属氧化物。18 .如申请专利范围第15项之方法,其中,步骤(b)的组 成物包含如申请专利范围第13或14项的任一组成物 且步骤(c)的组成物包含如申请专利范围第5.6.7.8. 或9项的任一组成物。19.一种用以氧化气态卤化及 非卤化有机化合物的触媒,其特征为该触媒包含位 于高表面积氧化铝载体上的铂、钯、或其混合物, 并且氧化铝为硷土金属氧化物及稀土金属氧化物 所安定,且实质上不含三氧化二铈。20.如申请专利 范围第19项之触媒,其中,氧化铝为选自包含钡、锶 、镧、铌、及其混合物之金属的氧化物所安定。 21.一种用以氧化气态卤化及非卤化有机化合物的 触媒,其特征为该触媒包含浸渗至高表面积氧化铝 中之有效催化量的铂、钯、或其混合物,且氧化铝 已和本体氧化铈混合。22.如申请专利范围第20项 之触媒,其中,氧化铝含有低于1%以质量计的稀土及 硷土金属氧化物。23.一种用以氧化气态卤化及非 卤化有机化合物的触媒,其特征为该触媒包含: 第一区触媒其包含位于氧化铝、三氧化二铈、氧 化钛、氧化矽、氧化锰、氧化锆或者其混合物或 复合物载体上的铂、钯或其混合物;及 第二区触媒其包含位于高表面积氧化铝载体上的 铂、钯或其混合物,其中氧化铝为硷土金属氧化物 及稀土金属氧化物,及/或其混合物所安定且实质 上不含三氧化二铈。24.如申请专利范围第22项之 触媒,其中,第一区触媒包含浸渗至高表面积氧化 铝中的铂、钯、或其混合物,且氧化铝已和本体氧 化铈混合。图式简单说明: 第一图显示本发明之卤化抑制触媒的苯及甲基溴 转化率。 第二图显示本发明之新颖氧化触媒的苯及甲基溴 转化率。 第三图显示当第一图及第二图的触媒组合时苯及 甲基溴的转化率。 第四图显示非本发明之一部份的触媒与本发明之 卤化抑制触媒的比较效能。 第五图显示非本发明之一部份的触媒与本发明之 新颖氧化触媒的比较效能。 |
