研磨用组成物及研磨方法

摘要

本发明为提供一种研磨用组成物及使用此研磨用组成物之研磨方法，其可降低使用研磨用组成物进行研磨后之研磨对象物表面之65nm以上大小之LPD数。本发明之研磨用组成物，其特征系研磨用组成物中之钠离子及醋酸离子中任一者之浓度为10ppb以下。或研磨用组成物中之钠离子及醋酸离子之浓度各自为10ppb以下。研磨用组成物以含有羟乙基纤维素般之水溶性高分子、氨般之硷、及胶体二氧化矽般之砥粒为佳。