| 摘要 |
Es wird eine positiv arbeitende strahlungsempfindliche Beschichtungslösung beschrieben, die als wesentliche Bestandteile eine strahlungsempfindliche Verbindung, z.B. ein 1,2-Naphthochinondiazid, oder eine strahlungsempfindliche Kombination von Verbindungen, z.B. eine Verbindung mit mindestens einer durch Säure spaltbaren C-O-C-Bindung und eine bei Bestrahlung eine starke Säure bildende Verbindung, und ein organisches Lösemittel oder Lösemittelgemisch enthält, das mindestens zum überwiegenden Teil aus einem Mono-C1 bis C4-alkylether des 1,2-Propandiols besteht. Die Lösung ist weniger toxisch und ergibt einen besseren Schichtverlauf als bekannte Positivresistlösungen.
|
