发明名称 PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING CURED FILM, CURED FILM, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND ORGANIC EL DISPLAY DEVICE
摘要 저노광량에서의 패턴 형성성의 부여가 가능하며, 감도, 경시 안정성, 내용제성, 및 열중량 감소율 우수하고, 또한 합성 스텝수가 증가하지 않는 저가의 감광성 수지 조성물, 경화막의 제조 방법, 경화막, 액정 표시 장치 및 유기 EL 표시 장치를 제공한다. (A) 하기 일반식 (1)로 나타나는 반복 단위를 포함하는 폴리벤조옥사졸 전구체, (B) 광산발생제, (C) 용제, (D) 가교제, 및 (E) 산기가 산분해성기로 보호된 기를 분자 중에 갖는 화합물을 함유하는 감광성 수지 조성물. 일반식 (1)
申请公布号 KR20160085303(A) 申请公布日期 2016.07.15
申请号 KR20167015306 申请日期 2014.12.08
申请人 FUJIFILM CORPORATION 发明人 NAKAGAWA MIKIO;AMEMIYA TAKUMA;SUGIHARA KOICHI;ANDO TAKESHI
分类号 G03F7/004;G02F1/1333;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/40;H01L51/52 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
地址