| 发明名称 |
METAL SILICATE LAYER FORMATION BY GAS PHASE DEPOSITION |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPS60230983(A) |
申请公布日期 |
1985.11.16 |
| 申请号 |
JP19850072512 |
申请日期 |
1985.04.05 |
| 申请人 |
SIEMENS SCHUCKERTWERKE AG |
发明人 |
KONRAATO HIIBAA;MANFUREETO SHIYUTORUTSU;KURAUDEIA UIIKUTSUOREEKU |
| 分类号 |
C23C16/42;C23C16/455;H01L21/28;H01L21/285 |
主分类号 |
C23C16/42 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
