发明名称 Semiconductor memory cell having an electrically floating memory gate.
摘要 <p>Es wird eine Halbleiterspeicherzelle mit einer Source-Drain-Reihenschaltung mehrerer Speichertransistoren, welche potentialmäßig schwebende Speichergates aufweisen und vom Verarmungstyp sind, mit einem Auswahltransistor (Tas) zwischen einer ersten Bitleitung (X) und einer zweiten Bitleitung (Y) angegeben. Die Speicherzelle bleibt solange programmierbar, wie einer der in Serie liegenden Speichertransistoren noch ein fehlerfreies Injektoroxid aufweist, während die Speichertransistoren mit einem durch einen Durchschlag beschädigten Injektoroxid zwar unprogrammierbar werden, jedoch die Programmierbarkeit der Halbleiterspeicherzelle nicht beeinträchtigen.</p>
申请公布号 EP0160720(A1) 申请公布日期 1985.11.13
申请号 EP19840105116 申请日期 1984.05.07
申请人 DEUTSCHE ITT INDUSTRIES GMBH 发明人 ADAM, FRITZ GUNTHER, DR. RER.NAT., DIPL.-PHYS.
分类号 H01L27/112;G11C17/00;G11C16/04;G11C16/06;G11C29/00;G11C29/04;H01L21/8246;H01L21/8247;H01L27/10;H01L27/115;H01L29/788;H01L29/792;(IPC1-7):H01L29/60;G06F11/20 主分类号 H01L27/112
代理机构 代理人
主权项
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