发明名称 METHOD AND APPARATUS FOR DRAWING THICK-FILM CIRCUITS
摘要 Procédé et dispositif de traçage d'un circuit à film épais sur un substrat (2), consistant à rapprocher un ajutage traceur (1) dont l'extrémité libre possède un orifice de décharge de pâte, près du substrat (2) sur lequel il faut tracer le circuit à film épais, et à décharger la pâte depuis l'orifice de décharge sur le substrat (2) tout en déplaçant l'ajutage (1) par rapport au substrat. En réglant la vitesse de décharge de la pâte en fonction de la vitesse relative du mouvement linéaire de l'ajutage traceur (1) par rapport au substrat (2), il est possible de prévenir les fluctuations de l'épaisseur et de la largeur du film qui sont provoquées par des variations de ladite vitesse, de manière à pouvoir tracer rapidement un circuit à film épais très précis.
申请公布号 WO8505005(A1) 申请公布日期 1985.11.07
申请号 WO1985JP00199 申请日期 1985.04.15
申请人 MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD. 发明人 MAEDA, YUKIO;KUDO, SHINICHI;SAEKI, KEIJI
分类号 H05K3/10;H05K3/12;(IPC1-7):H05K3/12;B41J3/04 主分类号 H05K3/10
代理机构 代理人
主权项
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