| 发明名称 |
APPARATUS FOR MEASURING OVERLAY ERROR BETWEEN A MASK PATTERN AND A WAFER PATTERN |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2157825(A) |
申请公布日期 |
1985.10.30 |
| 申请号 |
GB19850006520 |
申请日期 |
1985.03.13 |
| 申请人 |
THE * PERKIN ELMER CORPORATION |
发明人 |
TIMOTHY A * BRUNNER |
| 分类号 |
H01L21/30;G03F1/08;G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027;(IPC1-7):G01B11/14 |
主分类号 |
H01L21/30 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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