发明名称 Process for the preparation of a protection layer or a relief pattern.
摘要 <p>Verfahren zur Herstellung einer Schutzschicht oder einer Reliefabbildung auf einem Substrat, bei dem eine strahlungsempfindliche Schicht aus einem festen, filmbildenden Epoxidharz, das einen strahlungsaktivierbaren Photoinitiator für die Polyaddition enthält, von einem Trägermaterial auf ein Substrat übertragen, darauf direkt oder unter einer Photomaske belichtet und thermisch gehärtet wird, und worauf gegebenenfalls die unbelichteten Anteile mit einem Lösungsmittel entwickelt werden. Das Verfahren eignet sich z.B. zur Herstellung von gedruckten Schaltungen, Lötstoppmasken und Offsetdruckplatten.</p>
申请公布号 EP0153904(A2) 申请公布日期 1985.09.04
申请号 EP19850810039 申请日期 1985.02.04
申请人 CIBA-GEIGY AG 发明人 ZWEIFEL, HANS, DR.;BAUER, SIGRID, DR.;MEIER, KURT, DR.
分类号 G03C5/00;C08G59/68;C08J3/28;C08J7/04;G03C1/00;G03F7/038;G03F7/11;H05K3/00;(IPC1-7):G03C1/68;C07F7/10 主分类号 G03C5/00
代理机构 代理人
主权项
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