| 发明名称 |
ELECTRON-BEAM AND X-RAY SENSITIVE POLYMERS AND RESISTS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0119017(A3) |
申请公布日期 |
1985.08.28 |
| 申请号 |
EP19840300919 |
申请日期 |
1984.02.14 |
| 申请人 |
EASTMAN KODAK COMPANY |
发明人 |
TAN, ZOILO CHEN-HO;DALY, ROBERT CURTIS |
| 分类号 |
C08F20/00;C08F20/10;C08F20/26;C08F20/38;C08F220/26;C08F220/28;C08F220/32;C08F220/40;G03F7/038;(IPC1-7):G03F7/10 |
主分类号 |
C08F20/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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