| 发明名称 |
Process for imaging resist materials |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2152223(A) |
申请公布日期 |
1985.07.31 |
| 申请号 |
GB19840028518 |
申请日期 |
1984.11.12 |
| 申请人 |
* FUSION SEMICONDUCTOR SYSTEMS |
发明人 |
JOHN C * MATTHEWS |
| 分类号 |
G03C5/08;G03C5/00;G03F7/095;G03F7/20;G03F7/26;(IPC1-7):G03C1/52 |
主分类号 |
G03C5/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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