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发明名称 METHOD FOR EXPOSURE DOSE CALCULATION OF PHOTOLITHOGRAPHY PROJECTION PRINTERS
摘要
申请公布号 EP0134453(A3) 申请公布日期 1985.07.24
申请号 EP19840107434 申请日期 1984.06.28
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 CHOW, MING-FEA;LOPATA, ALEXANDER DANIEL;LYONS, CHRISTOPHER FRANCIS;MCINTOSH, ROBERT CHARLES;SCADUTO, ANTHONY FRANCIS
分类号 H01L21/30;G03C5/08;G03F7/105;G03F7/20;(IPC1-7):H01L21/312;G03F7/26;G03F7/08;G03C5/18;G03B41/00 主分类号 H01L21/30
代理机构 代理人
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