| 摘要 |
Appareil de traitement par plasma de substrats en forme de plaquettes comprenant une enceinte de réaction (2) munie de moyens d'amenée (48) et de moyens d'évacuation (50) pour un gaz de réaction, une anode (46), une multiplicité de cathodes (13) à la périphérie desquelles sont ménagés des espaces d'écoulement (40, 41) de gaz au travers desquels le gaz de réaction peut s'écouler depuis les moyens d'amenée de gaz situés du côté des surfaces (15c, 16c) des cathodes recevant les plaquettes jusqu'aux moyens d'évacuation (50) placés en aval de ces espaces d'écoulement (40, 41). Cet appareil de traitement peut également comprendre un plateau amovible (38) pour charger et décharger les plaquettes, lesdits espaces d'écoulement (40, 41) étant délimités par les parois des électrodes et les parois des passages traversants prévus dans ce plateau (38). |
