发明名称 (A3 B1) ;PROCESS FOR REMOVING NOXIOUS MATTER FROM OFF-GASES
摘要 <p>Im Zusammenhang mit chemischen Prozessen, insbesondere auch bei der Halbleiter-Herstellung, treten kovalente Hydride, Element-organische Verbindungen usw. als Schadstoffe im Abgas auf. Zur Abgasreinigung wird mit der Erfindung hierfür ein nass-chemisches Verfahren vorgeschlagen, bei dem in einer ersten Stufe die kovalenten Hydride und Element-organischen Verbindungen mittels Brom- oder Jod-Lösungen oder Lösungen von Bromat- oder Jodat-Salzen in spontaner Reaktion aufoxidiert und vollständig in wasserlösliche Verbindungen umgesetzt und in einer zweiten Stufe mittels einer basischen Lösung das in der ersten Stufe entstandene Brom bzw. Jod zu Bromid und Bromat bzw. Jodid und Jodat umgesetzt und gelöst sowie Halogen-Wasserstoffe vollständig neutralisiert werden. Hinter der zweiten Stufe - vor einem Aktivkohlefilter - ist der Schadstoffgehalt im Abgas auf weniger als 1 ppb (10&lt;-&gt;&lt;9&gt;) reduziert.</p>
申请公布号 EP0145642(A2) 申请公布日期 1985.06.19
申请号 EP19840730124 申请日期 1984.11.22
申请人 HEINRICH-HERTZ-INSTITUT FUR NACHRICHTENTECHNIK BERLIN GMBH 发明人 FABIAN, WERNER, DIPL.-CHEM.;ROEHLE, HELMUT, DR.-ING.;WOLFRAM, PETER, DIPL.-CHEM.
分类号 B01D53/46;B01D53/64;(IPC1-7):B01D53/34 主分类号 B01D53/46
代理机构 代理人
主权项
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