PROCEDIMIENTO PARA DEPOSITAR UN MATERIAL TRANSPARENTE ELECTRICAMENTE AISLANTE SOBRE UN DISPOSITIVO FOTOVOLTAICO

摘要

PROCEDIMIENTO PARA DEPOSITAR UN MATERIAL TRANSPARENTE ELECTRICAMENTE AISLANTE SOBRE UN DISPOSITIVO FOTOVOLTAICO.CONSISTE EN: A) FACILITAR UNA FUENTE DE ENERGIA DE MICROONDAS (17); B) ACOPLAR LA ENERGIA DE MICROONDAS A UN RECIPIENTE DE REACCION (12) CERRADO QUE CONTIENE EL SUSTRATO (14) SOBRE EL QUE HA DE DEPOSITARSE LA PELICULA SEMICONDUCTORA AMORFA (22); Y C) INTRODUCIR EN EL RECIPIENTE (12) GASES DE REACCION INCLUYENDO SILICIO Y NITROGENO U OXIGENO. LA ENERGIA DE MICROONDAS Y LOS GASES DE REACCION FORMAN UN PLASMA DE DESCARGA LUMINOSA EN EL INTERIOR DEL RECIPIENTE (12) PARA DEPOSITAR SOBRE EL SUSTRATO (14) UNA PELICULA SEMICONDUCTORA AMORFA (22) A PARTIR DE LOS GASES DE REACCION.