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<p>PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE UNA FORMA DE IMPRESION O PLANTILLA FOTORRESISTENTE.COMPRENDE LAS SIGUIENTES OPERACIONES: PRIMERA, SE APLICA A UN SOPORTE UNA SOLUCION DE UNA MEZCLA FOTOSENSIBLE QUE CONTIENE UN COMPUESTO FOTOSENSIBLE O UNA COMBINACION FOTOSENSIBLE DE COMPUESTOS Y UN POLIVINIL-FENOL HALOGENADO; SEGUNDA, SE SECA LA SOLUCION A UNA TEMPERATURA COMPRENDIDA ENTRE 50 Y 150 GRADOS, PARA FORMAR UNA CAPA FINA Y UNIFORME FOTOSENSIBLE; TERCERA, SE SOMETE EL MATERIAL FOTOSENSIBLE A RADIACION ACTINICA CON LA IMAGEN; CUARTA, SE ELIMINAN LOS SECTORES NO EXPUESTOS CON UNA SOLUCION ACUOSA-ALCALINA; Y POR ULTIMO, SE CALIENTA LA PLANTILLA DE IMAGEN A UNA TEMPERATURA COMPRENDIDA ENTRE 180 Y 240 GRADOS, AL OBJETO DE ENDURECERLA.</p> |
