| 发明名称 |
METHOD OF MEASURING DEPTH OF ION ETCHING |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS6076124(A) |
申请公布日期 |
1985.04.30 |
| 申请号 |
JP19840189470 |
申请日期 |
1984.09.10 |
| 申请人 |
THOMSON CSF |
发明人 |
FUIRITSUPU DOFURANUURU;RUI PUNABEERU |
| 分类号 |
H01L21/302;G01B17/02;H01J37/32;H01L21/3065 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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