PROCESS AND DEVELOPER COMPOSITION FOR THE DEVELOPMENT OF EXPOSED NEGATIVE-WORKING DIAZONIUM SALT LAYERS,申请号DE19813169477-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	PROCESS AND DEVELOPER COMPOSITION FOR THE DEVELOPMENT OF EXPOSED NEGATIVE-WORKING DIAZONIUM SALT LAYERS
摘要
申请公布号	DE3169477(D1)	申请公布日期	1985.04.25
申请号	DE19813169477	申请日期	1981.12.18
申请人	HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT	发明人	SPRINTSCHNIK, GERHARD, DR.
分类号	G03F7/26;(IPC1-7):G03C5/34;G03F7/08	主分类号	G03F7/26
代理机构		代理人
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