| 发明名称 |
METHOD OF DRYING SEMICONDUCTOR SUBSTRATES AND APPARATUS FOR DRYING SEMICONDUCTOR SUBSTRATES |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0032047(B1) |
申请公布日期 |
1985.04.10 |
| 申请号 |
EP19800304706 |
申请日期 |
1980.12.23 |
| 申请人 |
FUJITSU LIMITED |
发明人 |
TAKAGI, MIKIO;KAMIOKA, HAJIME |
| 分类号 |
H01L21/304;F26B3/347;F26B21/14;G03F7/38;G03F7/40;H01L21/00;H01L21/68;(IPC1-7):G03F7/26;G03F7/16;F26B3/34 |
主分类号 |
H01L21/304 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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