发明名称 DISPOSITIVO Y PROCEDIMIENTO PARA LA DEPOSICION GALVANICA DE METALES
摘要 <p>DISPOSITIVO Y PROCEDIMIENTO PARA LA DEPOSICION GALVANICA DE METALES.CONSTA DE UNA CUBA DE ELECTROLISIS (1) CON REBOSADERO (2), ELECTRODOS, BOQUILLAS, CONDUCCIONES TUBULARES COMUNICANTES, BOMBAS, SISTEMAS DE CONTROL Y DOSIFICACION. LA PIEZA A GALVANIZAR (12) ESTA DISPUESTA ENTRE DOS TOBERAS, LAS CUALES ESTAN FORMADAS POR DOS CAMARAS CON CONDUCCIONES DE APORTACION Y EVACUACION.</p>
申请公布号 ES8502486(A1) 申请公布日期 1985.04.01
申请号 ES19530005324 申请日期 1984.05.11
申请人 SCHERING AG. 发明人
分类号 C25D5/02;C25D5/08;H05K3/24;(IPC1-7):C25D5/08;C25D7/00;C25D21/00 主分类号 C25D5/02
代理机构 代理人
主权项
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