发明名称 |
SOURCE DE RAYONS X MOUS UTILISANT UN MICROCANAL DE PLASMA OBTENU PAR PHOTO-IONISATION D'UN GAZ |
摘要 |
<P>SOURCE INTENSE DE RAYONS X MOUS.</P><P>CETTE SOURCE COMPREND UNE ENCEINTE 14 REMPLIE DE GAZ ET MUNIE DE DEUX ELECTRODES 20, 22. L'UNE D'ENTRE ELLES EST PERCEE D'UN DIAPHRAGME 24 PAR OU PENETRE UN RAYONNEMENT PHOTO-IONISANT 30. SELON L'INVENTION, CE RAYONNEMENT EST UN RAYONNEMENT X MOU, PROVENANT PAR EXEMPLE DU BOMBARDEMENT D'UNE CIBLE 35 EN MATERIAU LOURD PAR LE RAYONNEMENT PULSE D'UN LASER 32.</P><P>APPLICATION A LA PRODUCTION D'X MOUS, PAR EXEMPLE POUR LA MICROLITHOGRAPHIE.</P>
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申请公布号 |
FR2551615(A1) |
申请公布日期 |
1985.03.08 |
申请号 |
FR19830014086 |
申请日期 |
1983.09.02 |
申请人 |
CENTRE NAL RECHERC SCIENTIFIQUE |
发明人 |
HENRI JEAN DOUCET, MICHEL GAZAIX, HENRI LAMAIN, CLAUDE ROUILLE ET JEAN-PIERRE FURTLEHNER;GAZAIX MICHEL;LAMAIN HENRI;ROUILLE CLAUDE;FURTLEHNER JEAN-PIERRE |
分类号 |
G21G4/04;G03F7/20;G21B1/00;H05G2/00;H05H1/00;H05H1/22;(IPC1-7):H05G1/00;H05H1/24 |
主分类号 |
G21G4/04 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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