| 摘要 |
<p>Cathode de magnétron (11) pour enduire par pulvérisation des substrats non planaires (S), comportant un élément tubulaire allongé rotatif (16) sur la surface extérieure duquel est appliquée une couche de matériau de revêtement (20) à pulvériser, et un mécanisme magnétique (55) monté dans ledit élément tubulaire, ledit élément tubulaire étant profilé longitudinalement pour offrir une surface de pulvérisation non cylindrique (17, 18, 19).</p> |
