| 发明名称 |
PROCEDIMENTO PER DEPOSITARE UNOSTRATO SU UN SUBSTRATO MEDIANTE DEPOSITO CHIMICO DALLA FASE DI VAPORE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
IT1063694(B) |
申请公布日期 |
1985.02.11 |
| 申请号 |
IT19760024611 |
申请日期 |
1976.06.23 |
| 申请人 |
INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION |
发明人 |
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| 分类号 |
H01L27/112;C23C16/22;C23C16/34;H01L21/28;H01L21/318;H01L21/8246;H01L21/8247;H01L29/51;H01L29/788;H01L29/792;(IPC1-7):H01L/ |
主分类号 |
H01L27/112 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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