| 摘要 |
Procédé de génération de motifs dont la configuration se modifie progressivement en passant d'une forme circulaire à une forme elliptique et ensuite ovale, et comprenant des traces rectilignes. Le procédé consiste à forcer un style à se déplacer le long d'axes orthogonaux, en générant des groupes de force de déplacement du style et en appliquant ces forces en combinaison sur le style. Les groupes de force de déplacement du style varient dans le temps dans des ordres de grandeur et des sens respectifs, de manière à forcer le style à se déplacer progressivement selon les motifs circulaires, elliptiques, ovales et rectilignes correspondants. Lors de l'utilisation du procédé de génération de motifs pour le surfaçage d'un élément optique, un outil de surfaçage (20) en contact avec l'élément optique (10) est déplacé, de même que le style (34) et l'élément optique (10), qui peuvent être soumis à un mouvement oscillatoire. |
