| 摘要 |
Des motifs d'exposition sont formés dans un matériau photosensible par interférométrie à l'aide d'un laser à rayons multiples grâce à un procédé consistant à exposer ce matériau photosensible simultanément à au moins trois rayons cohérents de radiation d'exposition, les sources de ces rayons étant disposées sensiblement symétriquement autour d'un axe perpendiculaire au plan de ce matérau photosensible. De préférence, des motifs de relief en surface sont formés en développant ce matériau exposé. On décrit également un appareil produisant les rayons cohérents multiples. |
