曝光装置

摘要

保持基片的2个载片台WS1、WS2可以在定位系统24a下的位置信息测量区域PIS和投影光学系统PL下的曝光区域EPS之间独立地移动。在上述WS1上正在进行晶片交换以及对位期间,可以在载片台WS2上曝光晶片W2。晶片WS1的各拍照区域的位置在区域PIS中被作为相对形成在载片台WS1上的基准标记的相对位置求出。因为相对位置信息在晶片WS1被移动到区域EPS被曝光时,用于相对曝光图形的对位,所以在载片台移动时不需要连续监视载片台的位置。通过使用2个晶片载片台WS1、WS2并行处理曝光动作就可以提高生产率。

主权项

1、曝光装置，包括：载片台系统，具有第1载片台和第2载片台，在保持基片的同时，每一个载片台都可以独立地在平面内的X方向上和Y方向上移动且每一个载片台都具有第1驱动系统和第2驱动系统，各驱动系统包括一个Y电机和两个X电机，所述Y电机具有平行于Y方向延伸的部件且第1载片台和第2载片台可以沿Y方向移动，所述X电机各具有平行于X方向延伸的第1部件和可沿对应的X电机的第1部件移动的第2部件，所述Y电机的所述部件连接于所述两个X电机的第2部件；投影系统，位于曝光光束的传输路径中，在曝光操作中将图形的像投射到保持于第1和第2载片台之一上的基片上；以及检测系统，在检测操作中检测保持于第1和第2载片台中另一个载片台上的基片的对准信息，所述检测操作在曝光操作期间进行，检测系统的检测区在X方向上与投影系统的投射区分离开，以及其中，保持于一个载片台上的基片的曝光操作完成之后，曝光保持于另一载片台上的基片。