发明名称 HIGH DENSITY CMOS PROCESS
摘要
申请公布号 HK93984(A) 申请公布日期 1984.12.07
申请号 HK19840000939 申请日期 1984.11.29
申请人 INTEL CORPORATION 发明人
分类号 H01L21/762;H01L21/8238;H01L29/06;(IPC1-7):H01L21/76 主分类号 H01L21/762
代理机构 代理人
主权项
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