发明名称 METHOD FOR OPERATION OF A PLASMA SUPPLY DEVICE AND A PLASMA SUPPLY DEVICE
摘要 <p>Ein Verfahren zum Betrieb einer Plasmaversorgungseinrichtung mit zumindest einer wenigstens zwei schaltende Elemente (1-4) aufweisenden Schaltbrücke (100, 101), wobei die Plasmaversorgungseinrichtung, ein Hochfrequenzausgangssignal mit einer Leistung > 500W und einer im Wesentlichen konstanten Grundfrequenz > 3MHz an eine Plasmalast (60) liefert, umfasst die Schritte: Ermitteln zumindest eines Betriebsparameters, zumindest eines Umgebungsparameters von wenigstens einem schaltenden Element und/oder eines Schaltbrückenparameters; Ermitteln von individuellen Ansteuersignalen für die schaltenden Elemente (1-4) unter Berücksichtigung des zumindest einen Betriebsparameters, des zumindest einen Umgebungsparameters und/oder des Schaltbrückenparameters; Individuelles Ansteuern der schaltenden Elemente (1-4) mit jeweils einem Ansteuersignal.</p>
申请公布号 WO2009012966(A1) 申请公布日期 2009.01.29
申请号 WO2008EP05980 申请日期 2008.07.22
申请人 HUETTINGER ELEKTRONIK GMBH + CO. KG;KIRCHMEIER, THOMAS;KNAUS, HANNS-JOACHIM;GLUECK, MICHAEL;WINDISCH, HANS-JUERGEN 发明人 KIRCHMEIER, THOMAS;KNAUS, HANNS-JOACHIM;GLUECK, MICHAEL;WINDISCH, HANS-JUERGEN
分类号 H01J37/32 主分类号 H01J37/32
代理机构 代理人
主权项
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