| 发明名称 |
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND LITHOGRAPHIC PLATE MANUFACTURED WITH THE SAME |
| 摘要 |
<p>L'invention concerne une composition photosensible destinée en particulier, à la réalisation de plaques lithographiques développables par des solutions aqueuses et ne nécessitant qu'un temps très court d'insolation. Cette composition est caractérisée en ce qu'elle comprend une résine époxy-acrylate liquide ou visqueuse, un acrylate ou méthacrylate de polyol et au moins un photosensibilisateur. Cette composition et les plaques lithographiques de l'invention sont notamment destinées à la reproduction offset.</p> |
| 申请公布号 |
CA1177301(A) |
申请公布日期 |
1984.11.06 |
| 申请号 |
CA19820412661 |
申请日期 |
1982.10.01 |
| 申请人 |
RHONE-POULENC SYSTEMES |
发明人 |
PIGEON, MARCEL;HAZAN, MARTA |
| 分类号 |
G03F7/004;C08F2/00;C08F2/48;C08F290/00;C08F299/00;G03F7/032;G03F7/038;(IPC1-7):G03F7/00 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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