| 发明名称 |
VERFAHREN ZUM HERSTELLEN VON STRUKTUREN VON AUS METALLSILIZIDEN BZW. SILIZID-POLYSILIZIUM BESTEHENDEN DOPPELSCHICHTEN FUER INTEGRIERTE HALBLEITERSCHALTUNGEN DURCH REAKTIVES IONENAETZEN |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE3315719(A1) |
申请公布日期 |
1984.10.31 |
| 申请号 |
DE19833315719 |
申请日期 |
1983.04.29 |
| 申请人 |
SIEMENS AG |
发明人 |
BEINVOGL,WILLY,DR.RER.NAT.;HASLER,BARBARA |
| 分类号 |
H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/3213;(IPC1-7):H01L21/90;H01L21/30 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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