| 摘要 |
Die Erfindung bezieht sich auf ein optisch strukturiertes Filter mit weitgehend glatten Oberflächen, wie sie z.B. als Arbeitsmasken für die photolithographische Herstellung von mikroelektronischen Bauteilen Verwendung finden, mit zumindestens einem Muster mit unterschiedlicher Transmission für die zu filternde elektromagnetische Strahlung. Die Filterschicht besteht aus einer Substanz mit örtlich homogener Transmission, in welche zur Erzeugung des bzw. der Muster mit unterschiedlicher Transmission, entsprechend diesem Muster, Ionen, vorzugweise Metallionen mit einer Energie über 1keV, implantiert werden. Auf diese Weise können auch Filter hergestellt werden mit Mustern mit Bereichen die für unterschiedliche Wellenlangen unterschiedliche Transmissionen aufweisen. Als Filterschichtmaterial können verschiedene Materialien, wie z.B. anorganische und organische Polymere und Gläser sowie mono- und polykristalline Oxide oder Nitride, Verwendung finden. Für die Ionenimplantation selbst finden an-und-für-sich bekannte Verfahrens-schritte Verwendung. |
