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发明名称 PROCESS OF MANUFACTURING POLYSILICON STRUCTURES HAVING 1 MICRON DIMENSIONS ON SILICON SUBSTRATES COMPRISING INTEGRATED CIRCUITS USING PLASMA ETCHING
摘要
申请公布号 EP0057258(B1) 申请公布日期 1984.09.26
申请号 EP19810108437 申请日期 1981.10.16
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 BEINVOGL, WILLY, DR. RER. NAT.;HASLER, BARBARA
分类号 H01L21/302;C04B41/53;H01L21/3065;H01L21/3213;(IPC1-7):H01L21/31;H01L21/30 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
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