发明名称 |
PROCEDE POUR LE DEPOT GALVANIQUE D'UNE COUCHE METALLIQUE EPAISSE HOMOGENE, LA COUCHE METALLIQUE AINSI OBTENUE ET SON APPLICATION, DISPOSITIF POUR LA MISE EN OEUVRE DU PROCEDE ET LA MATRICE OBTENUE |
摘要 |
L'INVENTION CONCERNE UN PROCEDE POUR LE DEPOT GALVANIQUE D'UNE COUCHE METALLIQUE EPAISSE HOMOGENE SUR LA SURFACE D'UNE CATHODE PRATIQUEMENT PLANE, SELON LEQUEL UN CORPS DE BLINDAGE EST DISPOSE DANS LE BAIN D'ELECTROLYTE ENTRE L'ANODE ET LA CATHODE. POUR AMELIORER L'HOMOGENEITE DE L'EPAISSEUR DE LA COUCHE METALLIQUE, CE QUI EST DESIRABLE PAR EXEMPLE POUR LA REALISATION DE PORTEURS D'INFORMATION, UN CORPS DE BLINDAGE CYLINDRIQUE EST APPLIQUE A COURTE DISTANCE DE LA CATHODE.
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申请公布号 |
FR2542765(A1) |
申请公布日期 |
1984.09.21 |
申请号 |
FR19840003814 |
申请日期 |
1984.03.13 |
申请人 |
PHILIPS GLOEILAMPENFABRIEKEN NV |
发明人 |
BERNARDUS THEODORUS VAN DER WERF ET GUSTAAF HERMAN ANTONIUS VAN DER HOORN |
分类号 |
G11B7/26;C25D1/10;C25D17/00;G11B9/06;(IPC1-7):25D1/10;25D17/00 |
主分类号 |
G11B7/26 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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