发明名称 |
Photopolymerisable composition, material coated therewith, and process for obtaining relief images. |
摘要 |
Photopolymerisierbare Zusammensetzungen aus (a) einer Polymer-Vorstufe mit photopolymerisierbaren olefinischen Doppelbindungen, (b) einem Photoinitiator der Formel <IMAGE> worin R¹, R² und R³ die im Patentanspruch 1 angegebene Bedeutung haben, und gegebenenfalls (c) einem Acrylsäure- oder Methacrylsäureester, Allyläther oder Allylester eines Polyols eignen sich dank ihrer hohen Lichtempfindlichkeit zur wirtschaftlichen Herstellung hoch temperaturbeständiger Schutzschichten und Reliefstrukturen mit hoher Auflösung und guter Kantenschärfe.
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申请公布号 |
EP0119162(A2) |
申请公布日期 |
1984.09.19 |
申请号 |
EP19840810070 |
申请日期 |
1984.02.06 |
申请人 |
CIBA-GEIGY AG |
发明人 |
RIEDIKER, MARTIN, DR.;ROHDE, OTTMAR, DR.;ROTH, MARTIN, DR.;BUHLER, NIKLAUS, DR. |
分类号 |
C08F2/00;C08F2/50;C08F290/00;C08F299/00;C08G73/00;C08G73/10;G03F7/029;G03F7/032;G03F7/037;G03F7/038;(IPC1-7):G03C1/68;G03F7/10 |
主分类号 |
C08F2/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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