发明名称 供产生无反射性层用之涂覆剂及其制法
摘要
申请公布号 TW085713 申请公布日期 1987.03.01
申请号 TW075100557 申请日期 1986.02.06
申请人 吉佛电工程公司 发明人
分类号 C09D5/33 主分类号 C09D5/33
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1﹒一种用以产制可涂覆于玻璃和塑胶物质之透明表面上无反射性层之涂覆剂,特别是提供在影像显示幕上不具反射性之层,此涂覆剂含有热可硬化漆和一经细分之以矽石为底质之色素,其特征为:所用之漆为聚矽氧烷漆,且将一热产制之矽石和一经疏水热产制矽石之混合物作为色素。2﹒依据请求专利部份第1项之涂覆剂,其特征为:包含有三烷氧矽烷之水层产物及/或三矽烷醇之部份缩合产物之聚矽氧烷漆溶于低指族醇和任意的胶状二氧化矽中。3﹒依据请求专利部份第1及2项之涂覆剂,其特征为:依DIN53216之聚矽氧烷漆之固体含量为20至30%,且含有胶状二氧化矽和三矽烷醇之部份醇合产物。4﹒依据请求专利部份第1至3﹒项之涂覆剂,其特征为:于3500℃之电弧中或藉着550至1250℃之火焰水解而;回收之矽石乃作为经热产制之矽石。5﹒依据请求专利部份第1至4项之涂覆剂,其特征为:在漆中矽石所含之总量为0﹒5至15%份重。6﹒依据请求专利部份第1至5﹒项之涂覆剂,其特征为:经疏水之热产制之矽石的量约等于矽石总量:5至40%。7﹒依据请求专利部份第1至6﹒项之涂覆剂,其特征为:矽石具有≦1um之粒度。8﹒依据请求专利部份第1至7﹒项之一种制备含有聚矽氧烷漆及热产制之矽石之涂覆剂的方法,其特征为:矽石先与一部份之漆蹍磨,直至其糊状混合物之粒度经一碾磨计测定后达到一≦1um之値为止,随后与其余之聚矽氧烷漆共同处理。
地址 德国