发明名称 |
INTENSITY OF A LIGHT BEAM APPLIED TO A LAYERED SEMICONDUCTOR STRUCTURE CONTROLS THE BEAM |
摘要 |
Un dispositif optique (10) comprend une structure de semiconducteurs en couches (16) possèdant un rayon lumineux d'entrée variable (21) appliqué à la structure avec une composante de champ E (22) polarisée perpendiculairement aux couches. L'intensité du rayon lumineux d'entrée commande la charge emprisonnée dans les couches, la constante diélectrique des couches contenant la charge emprisonnée et la propagation du rayon lumineux d'entrée à l'intérieur du dispositif. |
申请公布号 |
WO8402783(A1) |
申请公布日期 |
1984.07.19 |
申请号 |
WO1983US02054 |
申请日期 |
1983.12.29 |
申请人 |
WESTERN ELECTRIC COMPANY, INC. |
发明人 |
CHEMLA, DANIEL, SIMON |
分类号 |
G02F1/015;G02F1/017;G02F1/19;G02F1/35;(IPC1-7):02F1/015;02F1/19;02F1/35 |
主分类号 |
G02F1/015 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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