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<P>SELON L'INVENTION IL EST UTILISE, OUTRE TROIS COUPLES DE REPERES D'ALIGNEMENT 40-50 A 42-52 INSCRITS RESPECTIVEMENT SUR UN MASQUE 1 ET UN ECHANTILLON 2 DISPOSES PARALLELEMENT EN RELATION DE PROXIMITE, AU MOINS DEUX COUPLES DE REPERES SUPPLEMENTAIRES 600-700 A 603-703 SERVANT A EVALUER LES DISTORSIONS DIMENSIONNELLES RELATIVES DU MASQUE 1 ET DE L'ECHANTILLON 2. CHAQUE COUPLE DE REPERE COMPREND UNE LENTILLE A ZONE DE FRESNEL ET UN TRAIT INTERROMPU FORMANT RESEAU A PAS CONSTANT. APRES ALIGNEMENT A L'AIDE DES REPERES D'ALIGNEMENT, LES REPERES SUPPLEMENTAIRES SONT UTILISES POUR DETERMINER L'AMPLITUDE DES DISTORSIONS. LA DISTANCE SOURCE-MASQUE EST AJUSTEE POUR COMPENSER LES DISTORSIONS LINEAIRES ET L'ASSIETTE DU MASQUE EST AJUSTEE POUR COMPENSER LES DISTORSIONS NON LINEAIRES.</P><P>APPLICATION A LA MICROLITHOGRAPHIE EN RAYONS X, UV ET PAR FAISCEAUX ELECTRONIQUES OU IONIQUES.</P>
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