摘要 |
1. Nuevo dispositivo de alimentación de agua en planchas de vapor, caracterizado porque lo constituye un vástago de sección uniforme dotado de vaciados longitudinales, a modo de ranuras, con capacidad de desplazarse ceñido al asiento de válvula, para quedar rematado en un ensanchamiento u obturador que en posición de repaso queda presionado al siento de válvula. 2.Nuevo dispositivo de alimentación de agua en planchas de vapor, en todo de acuerdo con la reivindicación anterior, caracterizado porque cada ranura tiene su inicio a distinta altura con relación al obturador y permitir un paso escalonado en progresión, según se permite el paso del agua por una o varias ranuras al quedar dicho vástago desplazado en mayor o menor cuantía. 3. Nuevo dispositivo de alimentación de agua en planchas de vapor, de acuerdo con las reivinciaciones anteriores, caracterizado porque en una realización preferente se efectúa el desplazamiento del vástago al girar el mando y hacer que un muñón discurrapor un plano inclinado, permitiendo el paso del agua por una primera ranura del vástago; mientras que para incrementar el caudal de agua suministrada a la cámara de vaporización se efectura por mera presión del pulsador para incrementar el desplazamiento del vástago obturador. 4. Nuevo dispositivo de alimentación de agua en planchas de vapor.
|