发明名称 DISPOSITIF A SEMI-CONDUCTEURS COMPORTANT UN CAPTEUR DE PRESSION ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN TEL DISPOSITIF
摘要 Un tel dispositif comportant une partie formant membrane, qui est obtenue par attaque chimique en 15 d'un corps semi-conducteur 6, dans l'autre face duquel se trouvent disposées une pluralité de couches semi-conductrices formant résistances 10 raccordées pour former un réseau en pont, ainsi qu'une région semi-conductrice fortement dopée 9 située au niveau de ladite partie formant membrane pour un capteur de pression et possédant le gradient de la concentration en impureté de dopage, ladite couche 9 permettant l'obtention d'un capteur de pression à semi-conducteurs à diaphragme plat. <BR/> Application notamment aux capteurs de pression à semi-conducteurs, à diaphragme en silicium. <BR/> (CF DESSIN DANS BOPI)<BR/> <BR/>
申请公布号 FR2538621(A1) 申请公布日期 1984.06.29
申请号 FR19830020663 申请日期 1983.12.23
申请人 HITACHI LTD 发明人 ISAO SHIMIZU ET KAZUJI YAMADA;YAMADA KAZUJI
分类号 G01L9/00;H01L29/84;(IPC1-7):01L49/02;01L21/04;01L9/06 主分类号 G01L9/00
代理机构 代理人
主权项
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